EDI vattenreningsverk för polysilikon

Ett EDI-vattenreningsverk för polykisel är vanligtvis en del av ett system med hög -renhet/ultraprent vatten (HPW/UPW) som används för att leverera mycket låg-jonvatten för polykiselproduktion och tillhörande verktyg. I polykiselanläggningar används EDI oftast efter RO för att kontinuerligt polera vatten till mycket låg konduktivitet, sedan tillkommer ytterligare poleringssteg beroende på var vattnet används (process vs utilities).

Vanliga vattenanvändningar inkluderar:

• Kemisk smink-/spädning(t.ex. syror/alkalier, processkemikalier)
• Rengöring/sköljningav utrustning och vissa delar
• Scrubbers(vissa behöver hög renhet; vissa kan använda RO-permeat)
• Pannmatning / ångsystem(ofta RO-EDI eller RO-EDI + blandad säng)
• Kylslingor(ofta RO eller mjukat/filtrerat vatten, inte alltid UPW)

Polysilikonanläggningar designar vanligtvis två kvalitetshuvuden:

• UPW/HPWför kritisk process & sköljning
• RO-genomtränger/mjukasför verktyg som kylande smink, washdown, etc.

En vanlig, robust konfiguration ser ut så här:

1) Förbehandling (skydda membran, stabilisera foder)

Råvatten → Multimedia/Sandfilter → Aktivt kol (eller avklorering) → Dosering av mjukmedel/antiskalningsmedel → Patronfilter (5 µm)

2) Avsaltning + kontinuerlig avjonisering

→ RO (ofta dubbel-pass) → Avgasare (CO₂-borttagning, valfritt men vanligt) → EDI

3) Slutlig polering (beror på önskad renhet)

För processvatten med hög-renhet lägger växter ofta till:

→ UV (185/254 nm) → Mixed Bed Polermaskin (slutlig "trim") → UF / slutliga membranfilter → Förvaringstank → Recirkulationsslinga → Användningsplats

• Kontinuerlig hög renhet (ingen hartsutmattningscykel)
• Ingen syra/kaustikregenerering (säkrare, lägre kemikaliehantering)
• Stabil konduktivitet/resistivitet
• Lägre regenererande avloppsvatten jämfört med traditionellt jonbyte

Exakta gränser beror på din process och kundspecifikationer, men typiska mål är:

För RO + EDI-produkt (före slutlig polering)

• Ledningsförmåga:~0,05–0,2 µS/cm
• Resistivitet:~5–18 MΩ·cm (design-beroende)

För "UPW/HPW" efter polering (vid behov)

• Resistivitet:ofta nära18,2 MΩ·cm
• Kiseldioxid/bor:mycket låg (ppb-nivå vid behov)
• TOC:mycket låg (ppb-nivå vid behov)
• Partiklar/bakterier:mycket låg (med UF + slutfilter + loop)

(Om din användning huvudsakligen är pannmatning och allmän processutspädning, behöver du kanske inte hela UPW-poleringståget.)

1. Kiseldioxid- och borkontroll

Hög kiseldioxid kan begränsa RO-återvinning och smutsiga membran.

Bor är svårare att ta bort; dubbel-pass RO och rätt pH-strategihjälp.

2. CO₂-avgasning förbättrar EDI

Hög upplöst CO₂ ökar EDI-belastningen och minskar resistivitetsstabiliteten. En membranavgasare är vanligt.

3. Materialval

Efter EDI, använd material med hög-renhet (ofta SS316L EP, PVDF/PFA/PP beroende på spec). Undvik urlakning och korrosion.

4. Slingdesignen spelar lika stor roll som sladden

Kontinuerlig återcirkulation, minimala döda-ben, korrekt filtrering av tankventiler och saneringsstrategi förhindrar kvalitetsavdrift.

5. Instrumentering & kontroll

Online: konduktivitet/resistivitet, pH, ORP (om sådan används), flöde/tryck, temperatur

För UPW: TOC, kiseldioxid, löst syre, partikelantal (om så krävs)

Om du delar dessa fyra detaljer, kartlägger jag den bästa konfigurationen för en EDI-vattenreningsanläggning för polysilikon:

1. Råvattenkälla + TDS, kiseldioxid, bor (om känt)
2. Erforderligt produktflöde (m³/h)
3. Slutanvändning: processutspädning/sköljning vs UPW kritisk vs panna
4. Alla utsläppsbegränsningar (normal / begränsad / ZLD)

a. Vi tillhandahåller fullständig teknisk support och efter installation av utrustning.
b.Vi hjälper till att utbilda operatören av systemet. Och detaljerad bruksanvisning tillhandahålls.
c.7*24 timmars telefonassistans med teknisk support.
d.Vi tillhandahåller förbrukningsmaterial och reservdelar på lång sikt-till självkostnadspris.

Populära Taggar: edi vattenreningsverk för polykisel, Kina edi vattenreningsverk för polykiseltillverkare, leverantörer, fabrik